Feature

• Speziell entwickelt für die Beschichtung von leitfähigem Goldfilm für REM-Proben
• Kompakter Plasma-Sputter-Beschichter für metallische Beschichtungen wie Gold, Platin und Silber
• Einer 2" goldenes (4N) Ziel ist enthalten

Eingangsspannung

• 220 VAC 50/60 Hz, 200 W
• < 1000 W (einschließlich Vakuumpumpenleistung)
• 110 VAC-Strom ist verfügbar, indem Sie a verwenden 1000-W-Transformator (15-A-Sicherung) . Der Transformator ist separat erhältlich

Ausgangsspannung

• 500 VDC

Sputterstrom

• 0 - 50 mA (max.) einstellbarer Sputterstrom
• Digitaler Stromzähler (mA)
• Überstromschutz

Sputterzeit

• 1 -120 Sekunden einstellbar

Probenkammer

• Quarzglasrohr, 165 mm AD. x 150 mm Innendurchmesser x 150 mm Höhe

Probenphase

• 2" Durchmesser
• höhenverstellbar, 30 - 80 mm von der Probe zum Target

Sputternder Kopf

• 2" Magnetron-Sputterkopf
• Ein manuell betätigter Verschluss für den Zielschutz

Vakuumdruck

• Digitales Vakuummeter (Pa)
• Anschluss für Vakuumpumpe KF25
• Endvakuumdruck 1 Pa durch die mechanische Pumpe. Die Pumpe ist nicht enthalten

Vakuumpumpe (optional)

• Empfohlen wird die zweistufige Drehschieberpumpe EQ-FYP.
• Optional: Sie können a verwenden Turbopumpe um ein Vakuum von 1,0E-5 Torr mit einer Turbopumpe zu erreichen (Klicken Sie auf das Bild unten rechts)

Gas eingeben

• Eine 1/4 Rohrverschraubung vom Typ Swagelok ist zum Anschließen der Inertgasflasche installiert
• In der Frontplatte befindet sich ein Dosierventil zum Einstellen des Eingangsgases

Ziel

• Ein 50 mm Durchmesser. x 0,12 mm Goldziel ist enthalten
  
  
• 4N reine Goldfolie: 50 mm (2 Zoll) Durchmesser. x 0,12 mm (im Lieferumfang enthalten und am Beschichter vorinstalliert)
  
• Optionale Ziele sind verfügbar (Zum Bestellen unten klicken)
  • Au Ziel (50 mm Durchmesser x 0,12 mm, Reinheit 4N)
  • Pt-Ziel (50 mm Durchmesser x 0,12 mm, Reinheit 4N)
  • Ag-Ziel (50 mm Durchmesser x 0,5 mm, Reinheit 4N)

Dieses Modell eignet sich zum Beschichten von Gold, Silber und Platin. Aufgrund der geringen Energie ist es nicht zum Beschichten von leichten metallischen Materialien wie Al-, Mg-, Zn- oder Kohlenstoff-Targets geeignet. Bitte ziehen Sie unseren DC/RF-Hochleistungs-Magnetron-Sputter-Coater oder thermischen Verdampfungs-Coater in Betracht.

Produktabmessungen und -gewicht

• 460 mm (L) × 330 mm (B) × 520 mm (H)
• 20kg

Versandgewicht & amp; Abmessungen

• 80 Pfund
• 45" x 45" x 40"

Beachtung

• CE-zertifiziert
• Bereit, die UL/CSA-Zertifizierung gegen Aufpreis zu bestehen.

Garantie

• Ein Jahr begrenzt mit lebenslangem Support

Anwendungshinweise

• Für die beste Haftfestigkeit zwischen Film und Substrat reinigen Sie bitte die Substratoberfläche vor dem Beschichten:
• Ultraschallreinigung (zum Bestellen auf das Bild unten klicken) mit den folgenden aufeinanderfolgenden Bädern – (1) Aceton, (2) Isopropylalkohol – zum Entfernen von Öl und Fett. Föhnen Sie das Substrat mit N2 trocken und backen Sie es dann im Vakuum heiß, um absorbierte Feuchtigkeit zu entfernen
• Eine Plasmareinigung (zum Bestellen auf das Bild unten klicken) kann zum Aufrauen der Oberfläche, zur Aktivierung chemischer Bindungen auf der Oberfläche oder zum Entfernen zusätzlicher Verunreinigungen erforderlich sein
• Eine dünne Pufferschicht (~5 nm) wie Cr, Ti, Mo, Ta könnte aufgebracht werden, um die Haftung von Metallen und Legierungen zu verbessern

• Ein zweistufiger Druckregler (nicht im Lieferumfang enthalten) sollte an der Gasflasche installiert werden, um den Ausgangsdruck des Gases für eine sichere Verwendung auf unter 0,02 MPa zu begrenzen. Bitte verwenden Sie > 5N reines Ar-Gas zum Plasmasputtern
• Der Sputter-Coater kann zum Beschichten in eine Ar- und N2-Gas-Handschuhbox gestellt werden
• Bitte mehrfach beschichten, um die Schichtdicke zu erhöhen, bitte lassen Sie die Maschine zwischen jedem Gebrauch einige Minuten abkühlen, da sie keine Wasserkühlung hat
• HOCHSPANNUNG! Sputterköpfe werden an Hochspannung angeschlossen. Aus Sicherheitsgründen muss der Bediener das Gerät vor dem Laden von Proben und dem Wechseln von Zielen abschalten
• Dieses Modell ist aufgrund der geringen Energie nicht zum Beschichten von leichten metallischen Materialien wie Al-, Mg-, Zn- oder Kohlenstoff-Targets geeignet. Bitte beachten Sie unseren Magnetron-Sputter-Coater oder thermischen Verdampfungs-Coater. (Klicken Sie auf die Bilder unten für Details)