Zweizonen-CSS-Ofen mit rotierendem Waferhalter bis zu 5 x 5 Zoll bei max. 800 °C - OTF-1200X-RTP-II-5-R

Der OTF-1200X-RTP-II-5-R ist ein fortschrittlicher thermischer Schnellbehandlungsofen mit einer Quarzkammer mit einem Innendurchmesser von 11 Zoll und einem drehbaren Probenhalter von 5 x 5 Zoll. Es ist für die CSS-Filmbeschichtung von runden oder quadratischen Waferproben mit bis zu 5 Zoll bei einer Arbeitstemperatur von max. 800 °C ausgelegt. 10 º C/s Erwärmungsrate. Der obere Probenhalter ist drehbar, um eine Beschichtung mit hoher Gleichmäßigkeit zu erreichen. Es ist ein hervorragendes Werkzeug zur Erforschung von Dünnschichten der neuen Generation für Solarzellen, wie CdTe, Sulfid und P Erowskit-Solarzelle.

SPEZIFIKATIONEN:

Ofenstruktur	Ofen, zwei Temperaturregler, Zweikanal-Gasdurchflussmesser sind in einem mobilen Rahmen aus Aluminiumlegierung integriert. Die Kammer besteht aus hochreinem Quarzglasrohr mit einer Abmessung von 11" AD/10,8" ID x 9" H. Die Vakuumflansche bestehen aus Edelstahl 316 und werden elektromotorisch angehoben. Zwei 5 "x5" IR-Heizplatten und der Abstand sind einstellbar. Der obere Probenhalter ist mit einer Geschwindigkeit von 0 - 7 U / min drehbar.
Vakuumflansche	Der obere Flansch mit einem KFD-25-Vakuumanschluss und einem Gasauslass (1/4-Zoll-Rohr erforderlich) kann manuell nach oben oder unten geschoben werden, um das Substrat und das verdampfte Material einfach zu laden und zu entladen. Der untere Flansch hat einen KFD-25-Vakuumanschluss mit einem Gaseinlass (1/4"-Rohr erforderlich) mit Nadelventilen. Der Flansch wird durch doppelte Silikon-O-Ringe abgedichtet und kann max. der Vakuumdruck von 10E-2 Torr durch eine Qualität mechanische Pumpe und 10E-5 Torr durch eine Molekularpumpe (Vakuumpumpe ist nicht im Lieferumfang enthalten, bitte separat bestellen). Am oberen Flansch ist ein digitales Vakuummeter installiert. Präzisions-Antikorrosions-Digital-Vakuummeter ist im Standardpaket enthalten (seit 2016.03.24) .
Heizung und Probenhalter	Zwei unabhängig voneinander regelbare Heizungen mit manuell einstellbarem Abstand von 2 - 30 mm. Als Heizelement für die schnelle thermische Bearbeitung werden 20 Stück Halogenlampen verwendet. Heizungen bestehen aus Edelstahl mit Wasserkühlmantel, um die Wärmestrahlung zu reduzieren, und können schnell abkühlen. Der runde Waferhalter mit einem Durchmesser von 5 Zoll ist in die obere Heizung eingebaut, um das Substrat zu halten. Ein Satz hochwärmeleitfähiger AlN-Platten (5 Zoll Durchmesser x 0,5 mm Dicke) ist im Lieferumfang enthalten (auf der Rückseite des Substrats platzieren, um es gleichmäßig zu erwärmen). Ein zirkulierender Wasserkühler mit 58 l/min ist enthalten, um Wasser zu sparen (klicken Sie auf das Bild unten, um detaillierte Spezifikationen zu sehen). Der obere Probenhalter ist mit einstellbarer Geschwindigkeit von 0 - 7 U / min drehbar
Temperaturregler	Zwei präzise digitale Temperaturregler mit 30 programmierbaren Segmenten bieten eine unabhängige Steuerung der Ober- und Unterhitze. Jeder Regler verfügt über eine PID-Autotune-Funktion zum Schutz der Heizungen vor Überschwingen und eine Alarmfunktion, um zu verhindern, dass eine Überhitzung die Thermoelemente beschädigt. PC-Kommunikationsschnittstelle & Software für die Aufzeichnung des unten gezeigten Temperaturprofils installiert (klicken Sie auf das Bild unten für Details).
Arbeitstemperatur	Höchsttemperatur für jede Heizung: ≤ 800ºC. Maximale Temperaturdifferenz zwischen zwei Heizungen: ≤ 300ºC abhängig vom Abstand zwischen zwei Heizungen: Abstand 30 mm max. Temperaturunterschied: 315ºC bei nur Bodenheizung
Heizung & Kühlrate	Heizung: < 8ºC/s (nur Heizen mit Einzelheizung) Kühlung: < 10 °C/s (600 - 100 °C) max.
Thermisches Paar	Zwei Thermoelemente vom Typ K sind separat an der oberen und unteren Heizung installiert.
Betriebsspannung	208 - 240 VAC, einphasig, 50 A Luftunterbrecher
Leistungsbedarf	10 KW insgesamt
Maße	(Klicken Sie auf das Bild, um die Abmessungen zu sehen)
Versandgewicht & amp; Abmessungen	Zwei Paletten: 525 lbs und 48" x 40" x 87" und 165 lbs mit 39x31x29" Abmessung
Optional	Es wird eine Vakuumpumpe benötigt. Bitte bestellen Sie separat, indem Sie auf das erste Bild von links unten klicken. Das Vakuumniveau kann durch eine mechanische Pumpe ≤ 10E-2 Torr erreichen. Bei Verwendung von korrosivem Gas verwenden Sie bitte gegen Aufpreis eine Kühlfalle oder eine korrosionsbeständige Trockenpumpe (siehe Abbildung 2-3). Sie können das digitale MFC-Gasversorgungssystem auswählen, indem Sie auf das erste Bild rechts unten klicken.
Garantie	Ein Jahr begrenzt mit lebenslanger Unterstützung (Verbrauchsteile wie Quarzröhre und Heizlampen sind nicht von der Garantie abgedeckt).
Anwendungshinweise & Warnungen	Die Rohröfen mit Quarzrohr sind für den Einsatz unter Vakuum und Niederdruck < 0,2 bar / 3 psi / 0,02 MPa. Vakuumdrücke dürfen nur bis 1000°C sicher verwendet werden. Die Durchflussrate für Gase sollte auf < 200 SCCM (oder 200 ml/min) zur Reduzierung von Temperaturschocks am Schlauch. EIN Aufmerksamkeit : An der Gasflasche muss ein zweistufiger Druckregler installiert sein, um den Druck für einen sicheren Betrieb auf unter 3 PSI zu begrenzen. Das Fußgestell dieses Ofens ist nur für den Transport über kurze Distanzen auf ebener Oberfläche (ohne Gruben oder Unebenheiten) ausgelegt.