sputtering-coater
  • Sputter Coater Labor 3 Köpfe 1 Zoll RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Maschine mit DC Magnetron Sputtering

    3 Köpfe Kompakter 1-Zoll-HF-Plasma-Magnetron-Sputter-Beschichter mit DC-Magnetron-Sputter-Option

  • Magnetron Sputter Coater 2-Zoll-HF-Plasma-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für nichtleitende Dünnschichten

    2-Zoll-RF-Plasma-Magnetron-Sputtering-Coater für nichtleitende Dünnschichten

  • Magnetron Sputter Coater Labor-DC-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine mit Drehtisch und Wasserkühler

    Hochleistungs-DC-Magnetron-Sputtering-Coater mit Drehtisch & Wasserkühler

  • Plasma-Sputter-Coater 3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater Maschinenheizung (500C) Einschließlich 3 Targets

    3 Rotationstarget-Plasma-Sputtering-Coater m. Substratheizung (500 °C) einschließlich 3 Targets

  • Sputter Coater Labor-DC-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine mit Target für die Edelmetallbeschichtung

    Kompakter DC-Magnetron-Sputter-Coater mit Gold-Target für die Edelmetallbeschichtung

  • PVD-Beschichter Labor-Pulver-PVD-Beschichtungsmaschine mit DC-Magnetron-Sputter- und Vibrationsstufe

    Kompakter Pulver-PVD-Beschichter mit DC-Magnetron-Sputtern & Vibrationsstufe

  • Magnetron Sputter Coater 5 Köpfe HF-Plasma-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für die MGI-Dünnschichtforschung

    Kundenspezifischer 5-Kopf-RF-Plasma-Magnetron-Sputtering-Coater für die MGI-Dünnschichtforschung

  • Plasma-Sputter-Coater Kombinatorische Plasma-Sputter-Beschichtungsmaschine mit drei 2-Zoll-Magnetron-Sputterquellen und HF/DC-Leistung

    Kombinatorischer Plasmasputter-Beschichter mit drei 2-Zoll-Magnetron-Sputterquellen und HF/DC-Netzteilen

  • Plasma-Sputter-Coater Lab DC/RF Doppelkopf-Vakuum-2-Zoll-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichtungsmaschine

    DC/RF-Doppelkopf-Hochvakuum-2-Zoll-Magnetron-Plasma-Sputtering-Beschichter

  • DC-Vakuum-Sputtering-Coater Labor-DC-Vakuum-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtungsgerät mit einer Kammergröße von 150 * 120 mm

    Labor-DC-Vakuum-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtungsgerät mit einer Kammergröße von 150 * 120 mm Einführung Ionensputter-Coater (Modell SD900) ist ideal und für die Vorbereitung von REM-Proben im Labor konzipiert. Es wird häufig verwendet, um nichtleitende REM-Proben zur besseren Bildgebung mit Au zu beschichten. Es eignet sich auch hervorragend zur Oberflächenbehandlung. Das Arbeitsvakuum kann schnell innerhalb von 2 Minuten erreicht werden, wenn eine geeignete Vakuumpumpe verwendet wird. Es erzeugt viel weniger Wärme. Es ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen. Vakuumpumpe ist dabei. Parameter Vakuum p ump s et ( Ö nicht erforderlich) r otary v Akuum p ump Rotierend p Umping s gepinkelt 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz: 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vakuum l imitieren 2 Pa Maximaler Sputterstrom 0-20mA Arbeiten p Druck 30Pa - 7 Pa Staubsaugen ti mich <5 Mindest( 2 Pa) Vakuum m Leichtigkeit Messbereich von Atmosphäre bis 2*10 -2 Millibar Gas c steuern Gas f niedrig c Controller Kammer s Größe Φ fünfzehn 0* 12 0 mm (Höhe) kratzfestes Quarzglas Magnetron t arget s Quelle Zielgröße φ 50* 0,1 mm( EIN u)/ t Zielquelle: Au,Ag,Pt Betrieb m Methode Anleitung Handbuch l Gewicht/ s Größe 45 kg/ 36 0mm Länge x 30 0 mm breit x 38 0 mm hoch Leistung s liefern Wechselstrom 110 V 60 Hz oder Wechselstrom 220 V 50 Hz Leistung c Verbrauch < fünfzehn 00 W Kühlung m Methode Luft c ölen Garantie Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslanger Produktunterstützung t

  • DC- oder RF-Magnetron-Sputter-Coater DC- oder HF-Hochvakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtung

    DC- oder HF-Hochvakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtung Einführung Hoch Vakuum-Magnetron-Ionen-Sputtering-Coater ist ideal und konzipiert für die Materialwissenschaft und Probenvorbereitung. Es wird von den meisten Universitäten und wissenschaftlichen Forschungsinstituten der Materialwissenschaft und -technik zum Beschichten von Metallen, Keramiken, Halbleitern, Isolatoren oder anderen Arten der Membranmaterialvorbereitung verwendet. Hochvakuum-Magnetron-Ionen-Sputtering Coater bietet die stabilste Sputterumgebung und erreicht die grundlegenden experimentellen Bedingungen des Magnetron-Sputterns in sehr kurzer Zeit. Es bietet zwei Arten von DC / RF-Sputterleistungsoptionen, die das Sputtern von leitfähigen oder nicht leitfähigen Substanzen auf Proben ermöglichen und die Leistung der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) verbessern. Es eignet sich auch hervorragend zur Oberflächenbehandlung und Beschichtung. Es ist einfach zu bedienen und auch benutzerfreundlich. Vakuumpumpe und Kühler sind im Lieferumfang enthalten. Parameter Vakuum p ump s et ( Ö nicht erforderlich) r otary v Akuum p ump+( Ö ich bin frei) t Urbo m oleculan p Ump-Set Rotierend p Umping s gepinkelt 50 Hz: 16 m³ / h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2 m³ /h (5,2 l/s) Molekular p Umping s gepinkelt 300 l/ s Vakuum l imitieren 5 * 10 -5 Pa Arbeiten p Druck 0,5-5 Pa Staubsaugen t ich mich > 10 Minuten (10 -3 Pa) Vakuum m Leichtigkeit Messbereich von Atmosphäre bis 1*10 -6 Pa Gas c steuern Gas f niedrig c Controller Kammer s Größe φ260*200mm (Höhe) m u.a Magnetron t arget s Quelle Zielgröße φ 50 * 3 mm (Cu) / t Zielquelle: w eak m magnetisch s Substanz / m Materialien Betrieb m Methode Anleitung Handbuch l Gewicht/ s Größe 100 kg/610 mm Länge x 420 mm Breite x 490 mm hoch Leistung s liefern Wechselstrom 110 V 60 Hz oder Wechselstrom 220 V 50 Hz Leistung c Verbrauch < 3000 W Kühlung m Methode Luft c ölen ( p ump)+ w ater c ölen ( s putzen t arget) Garantie Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslanger Produktunterstützung

  • Sputter Coater für die REM-Probenvorbereitung Tragbarer DC-Vakuum-Auto-Ionen-Sputtering-Coater für die Vorbereitung von nichtleitenden REM-Proben

    Tragbarer DC-Vakuum-Auto-Ionen-Sputtering-Coater für die Vorbereitung von nichtleitenden REM-Proben Einführung Kompakt Automatischer Ionensputter-Coater (Modell SD800), das ideal für die Vorbereitung von REM-Proben im Labor ist. Es wird häufig verwendet, um nichtleitende REM-Proben zur besseren Bildgebung mit Au zu beschichten. Es eignet sich auch hervorragend zur Oberflächenbehandlung. Der Arbeitsvakuumdruck kann bei der Verwendung schnell erreicht werden richtige Vakuumpumpe. Es erzeugt viel weniger Wärme. Es ist benutzerfreundlich und mit Time Control einfach zu bedienen. Vakuumpumpe ist dabei. Parameter Vakuum p ump s et ( Ö nicht erforderlich) r otary v Akuum p ump Rotierend p Umping s gepinkelt 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9 . 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Staubsaugen t ich mich &lt; 2 Mindest Kammer s Größe Φ 115 * 1 00mm (Höhe) kratzfestes Quarzglas Magnetron t arget s Quelle Zielgröße φ 50* 0,1 mm( EIN u)/ t Zielquelle: Au,Ag,Pt Betrieb m Methode Anleitung Handbuch l Gewicht/ s Größe 4 0kg/ 307 mm Länge x 26 0 mm breit x 26 0 mm hoch Leistung s liefern Wechselstrom 110 V 60 Hz oder Wechselstrom 220 V 50 Hz Leistung c Verbrauch &lt; fünfzehn 00 W Kühlung m Methode Luft c ölen Garantie Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslangem Produkt Unterstützung

  • Vakuum-Thermoverdampfungs-Sputtering-Coater Vakuumpulsierender Sputterbeschichtungs-Beschichter mit thermischer Verdampfung und Vakuumpumpe

    Vakuumpulsierender Sputterbeschichtungs-Beschichter mit thermischer Verdampfung und Vakuumpumpe Einführung Automatisch Kohlenstoffbeschichter mit pulsierender thermischer Verdampfung (Modell SD980), das ideal für die Vorbereitung von REM-Proben im Labor ist. Der Kohlenstoffbeschichter SD980 ist ein vollautomatischer Kohlenstoffbeschichter, der einen dünnen leitfähigen Kohlenstofffilm auf eine Probenoberfläche aufträgt. Das Aufbringen dieser Beschichtung auf eine nichtleitende Probe ist eine effektive Vorbereitungstechnik zum Verringern von Aufladungselektronenartefakten für die Analyse in einem SEM. Ein gepulster Modus zum Schutz von Proben ist ebenfalls enthalten. Der Arbeitsvakuumdruck kann schnell erreicht werden, wenn eine geeignete Vakuumpumpe verwendet wird. Es ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen, indem es die Heizleistung (Strom) und die Impulszeiten (Rezept) des Touchscreens steuert. Vakuumpumpe ist dabei. Parameter Vakuum p ump s et ( Ö nicht erforderlich) r otary v Akuum p ump Rotierend p Umping s gepinkelt 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz: 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vakuum l imitieren 2 Pa Maximaler Verdampfungsstrom 80A Arbeiten p Druck 6 Pa - 4 Pa Staubsaugen t ich mich &lt;5 Mindest( 2 Pa) Vakuum m Leichtigkeit Messbereich von Atmosphäre bis 2*10 -2 Millibar Kammer s Größe Φ fünfzehn 0* 12 0 mm (Höhe) kratzfestes Quarzglas Verdunstung t arget s Quelle Ziel Material: Kohlenstoffseil / t Zielquelle: Kohleseil Betrieb m Methode Anleitung Handbuch l Gewicht/ s Größe 45 kg/ 39 0mm Länge x 31 0 mm breit x 2 90 mm hoch Leistung s liefern Wechselstrom 110 V 60 Hz oder Wechselstrom 220 V 50 Hz Leistung c Verbrauch &lt; 2 000W Garantie Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslanger Produktunterstützung

Go To Page