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Magnetron Sputtering Coater |
||
Low vacuum |
Magnetron sputtering |
900M(Single target) |
Plasma sputtering |
900 amd 800(Single target); SD-2000III(Three targets) |
|
Thermal evaporation |
800C and 980(Carbon rope, no target head) |
|
Magnetron sputtering + thermal evaporation |
900C(Single target), The other case is carbon rope |
|
High vacuum |
Magnetron sputtering |
SD-650MH(DC+ DC, DC + RF, RF+ RF) |
Thermal evaporation |
SD-100AF(Heat evaporation carbon rod, molybdenum boat, tungsten wire bar) |
Email: David@tmaxcn.com Wechat: 18659217588
- Magnetron-Ionen-Kohle-Sputter-Beschichter mit thermischer Verdampfung für die REM-Probenvorbereitung
- Materials Science Vakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtung Coater
- Vakuumpulsierender Sputterbeschichtungs-Beschichter mit thermischer Verdampfung und Vakuumpumpe
- Tragbarer DC-Vakuum-Auto-Ionen-Sputtering-Coater für die Vorbereitung von nichtleitenden REM-Proben
- Vakuum-Kohlenstoffbeschichtungsanlage mit thermischer Verdampfung für die Materialwissenschaft
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- Labor-DC-Vakuum-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtungsgerät mit einer Kammergröße von 150 * 120 mm
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- Labor-Präzisions-Temperaturgeregelte Vakuum-Wärmeverdampfungs-Beschichtungsmaschine
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- Thermisches Verdampfungssystem mit 4 Quellen und Präzisionstemperaturregler
- Labor-Pulver-PVD-Beschichtungsmaschine mit DC-Magnetron-Sputter- und Vibrationsstufe
- Labor-Zweizonen-CSS-Ofen für schnelle thermische Verarbeitung bis zu 3 Zoll Durchmesser und 650 °C.
- Ultraschall-Hochvakuum-Beschichter mit thermischer Verdampfung und vier Heizquellen (10-6 Torr)
- Labor-CSS-Ofen mit zwei Zonen für die schnelle thermische Bearbeitung von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 5 Zoll bei max. 800 °C