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Produkte
- 5000A Inverter DC Punktschweißmaschine
- 8000A Energiespeicher-Punktschweißmaschine
- Lab Hochtemperatur 1200C vertikaler Rohrabschreckofen für die Wärmebehandlung
- 1500 Abschreckrohrofen für Labormaterial-Phasenumwandlungsstudien
- 2KW Tragbare Hand-UV-LED-Licht-UV-Härtungsmaschine
- Intermittierende Beschichtungsmaschine für Batterieelektroden für die Produktionslinie
- Programmierbare Testkammer für Temperatur und Luftfeuchtigkeit mit Handschuhen
- Hochtemperatur 1700 ° C Mini-Kammer Hebeofen
- 24T Labor-Hydraulikpresse zum Pressen von Pulverpellets
- 80L Kleine Temperatur-Feuchtigkeits-Prüfkammer Umwelt- und Klimatester
- Semi-Auo-Montagemaschinenlinie für zylindrische Zellenbatterien für 14500 18650 21700 26650 32650 zylindrische Zellen
- 21700 18650 32650 32700 26650 Zylindrische Laborlinienausrüstung Kleine Versuchslinie für die Batterieforschung
- Automatische Beutelzellen-Produktionslinie für die Herstellung von Li-Ionen-Batterien
- Automatische Elektrolytfüllmaschine
- 0,05 mm mikroporöse Cu-Schaum-Kupferschaumplatte
- lithiumfolie (0,75 mm dick x 19 mm bx 3000 mm l) für li-ion akkus f & e
- Dreidimensionale Nanometer-Pulvermischmaschine für das Labor
- Dual-Workstation Einseitige (1800 × 750 mm) Vakuum-Handschuhbox mit H2O- und O2-Reinigungssystem
- Si-Einkristall-Target, P-dotiert (100) 3" x 4,0 mm, unpoliert-TG-SiPa76D40CN
- Si-Einkristall-Target, N-Typ, undotiert, (100) ori., 3 Zoll Durchmesser x 6,0 mm, fein geschliffen, R1000 Ohm.cm-TG-SiU76D60CN
- ZnS-Target, 99,99 %, 4" Durchmesser x 1/8" mit Kupfer-Trägerplatte
- Si-Einkristall-Target, N-Typ, undotiert 4" x 0,25", unpoliert R: 1000 Ohm.cm-TG-GaN15D30CN
- PbS-Target mit Kupferrückseite und Mantelplatte, Reinheit: 99,99 %
- MgO-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
- MgF2-Einkristall zum Aufdampfen, 2,8-6 mm Einheit: Gramm
- LiNiCoMnO2-Target für die Kathode einer Dünnschichtbatterie
- LiMn2O4-Target für die Kathode einer Dünnschichtbatterie
- LiFePO4-Target für die Kathode einer Dünnschichtbatterie
- GaAs-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
- CdWO4-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
- CaF2-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
- GaN-Target, 99,99 %, 15 mm x 3,0 mm, TG-GaN15D30CN
- Leitfähiges Keramiktarget (1" Dx 0,3 mm t) Li1,5Al0,5Ge1,5P3O12