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Thermisches Verdampfungssystem mit 4 Quellen und Präzisionstemperaturregler
Model Number:
GSL-1700X-EV4:
XiamenMOQ:
1Zahlung:
L/C D/A D/P T/T Western UnionDelivery Time:
5 days
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Vorherige:
Labor-Präzisions-Temperaturgeregelte Vakuum-Wärmeverdampfungs-BeschichtungsmaschineNächste:
Lab DC/RF Doppelkopf-Vakuum-2-Zoll-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichtungsmaschine
Thermisches Verdampfungssystem mit vier Quellen und Präzision
Temperaturregler
GSL-1700X-EV4 ist ein kompaktes thermisches Verdampfungssystem mit insgesamt 4 Verdampfungsquellentiegeln und präziser und programmierbarer Temperaturregelung. Vier Verdampfungstiegel könnten verwendet werden, um mehrere unterschiedliche Materialien abzuscheiden, um mehrschichtige Filme nacheinander in derselben Kammeratmosphäre wachsen zu lassen. Das System eignet sich zum Beschichten der meisten metallischen und organischen Materialfolien bis zu einer Größe von 2 Zoll bei 200 ºC bis 1500 ºC (oder 200 ºC - 1700 ºC mit einem optionalen Thermoelement vom Typ B).
SPEZIFIKATIONEN:
Struktur & Merkmale |
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Eingangsleistung |
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Temperaturregelung & Heizungen |
Vier Aluminiumoxid-Verdampfungstiegel mit jeweils 3 ml Fassungsvermögen. Vier Quellen können nicht gleichzeitig verwendet werden. Die mehrschichtige Ablagerung würde einzeln erfolgen.
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Drehbarer Probenhalter |
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Schichtdickenanalysesystem (optional) |
Präzisions-Dünnfilm & Beschichtungsanalysesysteme - EQ-TFMS-LD ist gegen Aufpreis erhältlich.
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Vakuum |
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Gaseinlass |
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Optional |
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Gesamtabmessungen |
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Abmessungen der Quarzkammer
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Außendurchmesser: 280 mm (11") |
Beachtung |
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Garantie
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Reingewicht |
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Versandgewicht & amp; Maße |
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Anwendungshinweise |
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