Kompakte Struktur

Eingangsleistung

• Einphasig 220 VAC 50 / 60 Hz
• 2000 W (einschließlich Vakuumpumpe und Wasserkühler)

Quellkraft

• Zwei Sputterstromquellen sind in einer Steuerbox integriert
• Gleichstromquelle: 500 W Leistung zum Beschichten von metallischen Werkstoffen (Bild 1)
• HF-Quelle: 300 W Leistung, 13,56 MHz Frequenz zum Beschichten von nicht leitenden Materialien (Bild 2)

Magnetron-Sputterkopf

• Zwei 2-Zoll-Magnetron-Sputterköpfe mit Wasserkühlmänteln und Rollläden sind im Lieferumfang enthalten
• Ein Sputterkopf-Modell ist ebenfalls erhältlich auf dieser Produktseite (in Produktoptionen)
• Einer ist mit einer Gleichstromquelle zum Beschichten metallischer Materialien verbunden
• Der andere ist mit einer HF-Quelle für nichtleitende Materialien verbunden
• Erforderliche Zielgröße: 2" Durchmesser
• Dickenbereich: 0,1 - 5 mm für sowohl metallische als auch nichtleitende Targets (einschließlich Trägerplatte)
• Einer Rostfreier Stahl Zielvorgabe und eine Forschungsnote Al2O3-Ziel sind für Demo-Tests enthalten
• Optionale 2-Zoll-Sputtertargets (oder Trägerplatte) sind auf Anfrage gegen Aufpreis erhältlich.
• Empfohlenes Sputter-Rezept und nützliche Tipps
• Kundenspezifischer Beschichter: Zwei DC-Köpfe ohne HF; zwei HF-Köpfe ohne DC; 3 HF-Köpfe sind auf Anfrage erhältlich
• Optional: 148 cm HF-Kabel kann gegen Aufpreis zum Austausch bestellt werden (Klicken Sie auf das 1. Bild von rechts, um zu bestellen)

Vakuumkammer

• Vakuumkammer: 300 mm Durchmesser. x 300 mm Höhe, aus Edelstahl
• Sichtfenster: Zwei Stücke mit 100 mm Durchmesser. Glas. Einer fest; einer zum Reinigen und Austauschen abnehmbar
• Aufklappbarer Deckel mit pneumatischem Strommast ermöglicht einen einfachen Zielwechsel

Beispielphase

• Der Probenhalter ist ein dreh- und beheizbarer Tisch aus Keramikheizung mit Kupferabdeckung
• Probenhaltergröße: 140 mm Dia. zum. 4" Wafer max
• Rotationsgeschwindigkeit: 1 - 20 U/min einstellbar für gleichmäßige Beschichtung
• Die Haltertemperatur ist von RT bis max. 500 °C (max. 2 h) mit einer Genauigkeit von +/- 1,0 °C über einen digitalen Temperaturregler einstellbar

Gasflusskontrolle

• Zwei Präzisions-Massendurchflussregler (MFC) sind installiert, um den Einlass von zwei Arten von Gasen zu ermöglichen
• Flussrate: 0 – 200 ml/min einstellbar auf dem Touchscreen-Bedienfeld
• Zur Vakuumentlastung ist ein Lufteinlassventil installiert

Vakuumpumpstation

• Eine mobile Pumpstation ist im Lieferumfang enthalten. Der Sputter Coater kann auf der Station platziert werden
• Die Hochgeschwindigkeits-Turbopumpe mit einer Geschwindigkeit von 80 l/s wird mit einer zweistufigen mechanischen Pumpe (220 l/min) kombiniert, um ein maximales Vakuumniveau und eine schnellere Pumpgeschwindigkeit zu erreichen
• Standard-Vakuumniveau verbunden mit Kammer: < 4,0E-5Torr. . (1.0E-6 Torr mit Kammerbacken)
• Wahlweise gegen Aufpreis
• Wenn Sie eine 150L/S Hochgeschwindigkeits-Turbopumpe wählen, kann das Vakuum 10-6 Torr mit Kammer erreichen (6x10-7 Torr mit Backen)
• Für das Ultrahochvakuum bis 10^-7 Torr wird zusätzlich zur Turbopumpe eine Getterpumpe (100L/s H2 & O2) benötigt. Bitte konsultieren Sie unsere Ingenieure für detaillierte Anpassungen.
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Wasserkühler

• Eine digitale Temperaturregelung Umlaufwasserkühler ist enthalten.
• Kühlbereich: 5~35 °C
• Durchflussrate: 16 l/min
• Pumpendruck: 14 psi

Optional

• Präziser Quarz Filmdickenmonitor ist optional und kann in die Kammer eingesetzt werden, um die Beschichtungsdicke mit einer Genauigkeit von 0,10 Å zu überwachen
• Präzision Dünnfilm & Beschichtungsanalysesysteme - EQ-TFMS-LD ist gegen Aufpreis erhältlich
• Verschiedene 2“-Oxid- und Metall-Targets sind auf Anfrage gegen Aufpreis erhältlich. Trägerplatten aus Silberepoxid und Kupfer können bei MTI bestellt werden

Gesamtabmessungen

Nettogewicht des Beschichters

• 160 Kilogramm

Versandgewicht & amp; Maße

• Insgesamt 2 Paletten
• #1: 520 Pfund, 52" x 40" x 50"
• #2: 420 Pfund, 48" x 40" x 45"

Beachtung

• CE-Zulassung
• MET-Zertifizierung (UL 1450) ist auf Anfrage gegen Aufpreis erhältlich, bitte kontaktieren Sie unseren Vertriebsmitarbeiter für ein Angebot.

Garantie

• Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslanger Unterstützung

Anwendungshinweise

• Ein zweistufiger Druckregler (nicht im Lieferumfang enthalten) sollte an der Gasflasche installiert werden, um den Gasausgangsdruck für eine sichere Verwendung auf unter 0,02 MPa zu begrenzen
• Um Sauerstoff aus der Kammer zu entfernen, empfehlen wir Ihnen, die Kammer 2-3 Mal mit 5 % Wasserstoff + 95 % Stickstoff zu reinigen, wodurch der Sauerstoffgehalt auf < 10 ppm
• Bitte verwenden Sie > 5N reines Argongas für das Plasmasputtern. Obwohl 5N reines Ar normalerweise je nach Anbieter 10 - 100 ppm Sauerstoff und H2O enthält. MTI empfiehlt Ihnen die Verwendung Gasreinigungsgerät um das Gas vor dem Einfüllen zu reinigen.
• Für beste Leistung müssen die nichtleitenden Targets mit einer Kupferträgerplatte installiert werden. Bitte beachten Sie das Anleitungsvideo unten für die Zielverklebung
• TMAX liefert Einkristallsubstrate von A bis Z
• TMAX Sputtering Coaters haben erfolgreich ZnO auf Al aufgetragen 2 Ö 3 Substrat bei 500 °C
• Testen Sie die Flexibilität der Dünnfilm-/umhüllten Elektrode mit EQ-MBT-12-LD Dornbiegeprüfgerät .
• HOCHSPANNUNG! Sputterköpfe werden an Hochspannung angeschlossen. Aus Sicherheitsgründen muss der Bediener den HF/DC-Generator abschalten, bevor Proben geladen und Targets gewechselt werden
• Verwenden Sie KEIN Leitungswasser im Wasserkühler. Verwenden Sie Kühlmittel, DI-Wasser, destilliertes Wasser oder Korrosionsschutzzusätze mit Wasser