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Produkte
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Labor-DC-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine mit Target für die Edelmetallbeschichtung
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3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater Maschinenheizung (500C) Einschließlich 3 Targets
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2-Zoll-HF-Plasma-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für nichtleitende Dünnschichten
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Einstellbarer Nassfilmapplikator mit Digitalanzeige-Mikrometer
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Mikrometer-Film-Applikator mit verstellbarer Breite 0 - 150 mm
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Si-Einkristall-Target, P-dotiert (100) 3" x 4,0 mm, unpoliert-TG-SiPa76D40CN
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Si-Einkristall-Target, N-Typ, undotiert, (100) ori., 3 Zoll Durchmesser x 6,0 mm, fein geschliffen, R1000 Ohm.cm-TG-SiU76D60CN
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ZnS-Target, 99,99 %, 4" Durchmesser x 1/8" mit Kupfer-Trägerplatte
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Si-Einkristall-Target, N-Typ, undotiert 4" x 0,25", unpoliert R: 1000 Ohm.cm-TG-GaN15D30CN
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PbS-Target mit Kupferrückseite und Mantelplatte, Reinheit: 99,99 %
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MgO-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
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MgF2-Einkristall zum Aufdampfen, 2,8-6 mm Einheit: Gramm
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LiNiCoMnO2-Target für die Kathode einer Dünnschichtbatterie
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LiMn2O4-Target für die Kathode einer Dünnschichtbatterie
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LiFePO4-Target für die Kathode einer Dünnschichtbatterie
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GaAs-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
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CdWO4-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
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CaF2-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
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GaN-Target, 99,99 %, 15 mm x 3,0 mm, TG-GaN15D30CN
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Leitfähiges Keramiktarget (1" Dx 0,3 mm t) Li1,5Al0,5Ge1,5P3O12
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BiFeO3-Target, 3" Durchmesser x 0,125" dicke Bindung an Kupfer(Cu)-Trägerplatte (0,111" dick)
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Al2O3-Einkristall zum Aufdampfen, Reinheit 99,99 %, 5x5x5 mm im Schnitt
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Al2O3 Target, Reinheit: 99,99 %, 6,9" x 8,9" x 0,25" dick, Target-Al2O3-172-222-0635CN
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Ba0,5Sr0,5TiO3-Target, 99,99 %
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Zr-Target, 99,99 %, 8,9 Zoll x 6,9 Zoll x 0,25 Zoll, TG-Zr-222-172-0635CN
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Cu(1 % Ga)-Target, Reinheit: 99,99 % 4" Durchmesser x 0,25"
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Cd-Target, Reinheit: 99,999 % 2 Zoll Durchmesser x 1/8 Zoll mit Kupfer-Trägerplatte
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Target aus hochreinem Edelstahl, 2 Zoll Durchmesser x 0,3 mm
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Lab-große automatische Film-Coater mit Vakuum-Spannfutter und einstellbare Rakel
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Lab DC/RF Doppelkopf-Vakuum-2-Zoll-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichtungsmaschine
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Kombinatorische Plasma-Sputter-Beschichtungsmaschine mit drei 2-Zoll-Magnetron-Sputterquellen und HF/DC-Leistung
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5 Köpfe HF-Plasma-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für die MGI-Dünnschichtforschung
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Labor 3 Köpfe 1 Zoll RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Maschine mit DC Magnetron Sputtering
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Breitenverstellbarer Filmapplikator mit einstellbarem Mikrometer
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Großer programmierbarer 5-Positionen-Tauchbeschichter mit 225 l Trockenofen
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Tauchbeschichter (1-200 mm / min) mit 124-l-Temperaturkammer und Touchpanel-Controller für große Substrate bis 16 "x 9"
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SPS-gesteuerter Tauchbeschichter (1-200 mm / min) für große Substrate bis zu 10 "x 12"
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Lab Kleine Schmelzbeschichtungsmaschine
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Anpassbare Schmelzkleber-Beschichtungsmaschine
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Kundenspezifische Laborbienen-Wachsbeschichtungsmaschine für Bienen-Verpackungspapier
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Kundenspezifische kompakte Rakel-Beschichtungsmaschine für das Labor
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Thermisches Verdampfungssystem mit 4 Quellen und Präzisionstemperaturregler
Cindy@tmaxcn.com
David@tmaxcn.com
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