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Produkte
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Labor-Desktop-Präzisions-Flachschlitzdüsenbeschichter mit beheiztem Vakuumstück
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Intermittierende Beschichtungsmaschine für Batterieelektroden für die Produktionslinie
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Si-Einkristall-Target, P-dotiert (100) 3" x 4,0 mm, unpoliert-TG-SiPa76D40CN
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Si-Einkristall-Target, N-Typ, undotiert, (100) ori., 3 Zoll Durchmesser x 6,0 mm, fein geschliffen, R1000 Ohm.cm-TG-SiU76D60CN
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ZnS-Target, 99,99 %, 4" Durchmesser x 1/8" mit Kupfer-Trägerplatte
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Si-Einkristall-Target, N-Typ, undotiert 4" x 0,25", unpoliert R: 1000 Ohm.cm-TG-GaN15D30CN
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PbS-Target mit Kupferrückseite und Mantelplatte, Reinheit: 99,99 %
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MgO-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
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MgF2-Einkristall zum Aufdampfen, 2,8-6 mm Einheit: Gramm
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LiNiCoMnO2-Target für die Kathode einer Dünnschichtbatterie
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LiMn2O4-Target für die Kathode einer Dünnschichtbatterie
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LiFePO4-Target für die Kathode einer Dünnschichtbatterie
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GaAs-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
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CdWO4-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
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CaF2-Einkristall zum Aufdampfen, 5x5x5 mm im Schnitt
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GaN-Target, 99,99 %, 15 mm x 3,0 mm, TG-GaN15D30CN
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Leitfähiges Keramiktarget (1" Dx 0,3 mm t) Li1,5Al0,5Ge1,5P3O12
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BiFeO3-Target, 3" Durchmesser x 0,125" dicke Bindung an Kupfer(Cu)-Trägerplatte (0,111" dick)
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Al2O3-Einkristall zum Aufdampfen, Reinheit 99,99 %, 5x5x5 mm im Schnitt
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Al2O3 Target, Reinheit: 99,99 %, 6,9" x 8,9" x 0,25" dick, Target-Al2O3-172-222-0635CN
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Ba0,5Sr0,5TiO3-Target, 99,99 %
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Zr-Target, 99,99 %, 8,9 Zoll x 6,9 Zoll x 0,25 Zoll, TG-Zr-222-172-0635CN
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Cu(1 % Ga)-Target, Reinheit: 99,99 % 4" Durchmesser x 0,25"
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Cd-Target, Reinheit: 99,999 % 2 Zoll Durchmesser x 1/8 Zoll mit Kupfer-Trägerplatte
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Target aus hochreinem Edelstahl, 2 Zoll Durchmesser x 0,3 mm
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Cu(9)In(11)-Target, Reinheit: 99,99 %, 4 Zoll Durchmesser x 0,125 Zoll
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Labor-Präzisions-Temperaturgeregelte Vakuum-Wärmeverdampfungs-Beschichtungsmaschine
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3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater Maschinenheizung (500C) Einschließlich 3 Targets
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Compact Tape Casting Coater mit Vakuum-Spannfutter (8 "B x 14" L), Filmapplikator und optionaler 100 ° C-Trocknerabdeckung
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Magnetron-Ionen-Kohle-Sputter-Beschichter mit thermischer Verdampfung für die REM-Probenvorbereitung
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Materials Science Vakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtung Coater
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Vakuumpulsierender Sputterbeschichtungs-Beschichter mit thermischer Verdampfung und Vakuumpumpe
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Tragbarer DC-Vakuum-Auto-Ionen-Sputtering-Coater für die Vorbereitung von nichtleitenden REM-Proben
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Vakuum-Kohlenstoffbeschichtungsanlage mit thermischer Verdampfung für die Materialwissenschaft
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DC- oder HF-Hochvakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtung
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Labor-DC-Vakuum-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtungsgerät mit einer Kammergröße von 150 * 120 mm
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Laborspezifische Filmbeschichtungsmaschine mit Rakel und Bar abwechselnd
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Galliumdotiertes Zinkoxid (GZO) Keramiktarget (3,4 % Dotierung), 99,99 %, 6,9" x 4,3" x 0,2"
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Target aus hochreinem Iridium (Ir).
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Target aus hochreinem Gold (Au).
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Sputtertarget aus hochreinem Kupfer (Cu).
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Target aus hochreinem Silber (Ag).