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Produkte
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Labor-Desktop-Präzisions-Flachschlitzdüsenbeschichter mit beheiztem Vakuumstück
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Laborspezifische Filmbeschichtungsmaschine mit Rakel und Bar abwechselnd
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Intermittierende Beschichtungsmaschine für Batterieelektroden für die Produktionslinie
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Einstellbarer Mikrometer-Filmapplikator mit Digitalanzeige - 200 mm Breite
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Schlitzdüsen-Elektrodenbeschichtungsmaschine für die Batterieproduktion zur kontinuierlichen Beschichtung und intermittierenden Beschichtung
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Compact Tape Casting Coater mit Vakuum-Spannfutter (8 "B x 14" L), Filmapplikator und optionaler 100 ° C-Trocknerabdeckung
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200 c max. Kompaktlabor Automatischer Mini-Tablet-Folienbeschichter (10 "B x 16" L) für die Beschichtung von Batterieelektroden
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Laborkompaktfolienbeschichter mit stufenloser Geschwindigkeit
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kleine batterie filmcoater maschine von 200 ° c für lithium batterie
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Intermittierende Laborbeschichtungsmaschine zur Herstellung von Lithiumbatterieelektroden
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Automatische Übertragung von Rolle zu Rolle Film-Beschichtungsanlage mit trocknen Backofen für Batterieelektroden
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Magnetron-Ionen-Kohle-Sputter-Beschichter mit thermischer Verdampfung für die REM-Probenvorbereitung
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Materials Science Vakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtung Coater
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Vakuumpulsierender Sputterbeschichtungs-Beschichter mit thermischer Verdampfung und Vakuumpumpe
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Tragbarer DC-Vakuum-Auto-Ionen-Sputtering-Coater für die Vorbereitung von nichtleitenden REM-Proben
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Vakuum-Kohlenstoffbeschichtungsanlage mit thermischer Verdampfung für die Materialwissenschaft
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DC- oder HF-Hochvakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtung
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Labor-DC-Vakuum-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtungsgerät mit einer Kammergröße von 150 * 120 mm
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Galliumdotiertes Zinkoxid (GZO) Keramiktarget (3,4 % Dotierung), 99,99 %, 6,9" x 4,3" x 0,2"
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Target aus hochreinem Iridium (Ir).
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Target aus hochreinem Gold (Au).
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Sputtertarget aus hochreinem Kupfer (Cu).
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Target aus hochreinem Silber (Ag).
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Kupfer-Trägerplattenziel
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Target aus hochreinem Zinkoxid (ZnO).
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Hochreines SrTiO3-Target 1" Durchmesser x 0,25" Dicke Keramik
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Target aus hochreinem Bleiselenid (PbSe), 2,003 Zoll Durchmesser x 0,129 Zoll
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Target aus hochreinem Aluminium (Al), 99,99 %
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Hochreines Target aus 99,99 % Aluminiumoxid (AL2O3), 2 Zoll Durchmesser x 2 mm
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Pt-Ziel, 99,99 % 2" x 3,0 mm
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Zwei-in-Eins-Filmbeschichter: Plasma-Sputter- und Kohlenstoffverdampfungs-Beschichtungsmaschine
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Labor-DC-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine mit Drehtisch und Wasserkühler
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Tisch-Tauchbeschichter mit mehreren Behältern
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Rolle-zu-Rolle-Transferbeschichtungssystem (max. 300 mm Breite) mit Trockenofen für Elektroden
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programmierbare steuerung vertikaler tauchbeschichter
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Batterie Mikrometer einstellbare Film Applikator - 100 mm
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SrTiO3-Target, 99,99 % 2 Zoll Durchmesser x 0,25 Zoll Dicke Keramik-TG-STO-50D0635-US
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SrRuO3 Target 99,9 % 2 Zoll Durchmesser x 0,25 Zoll Dicke – TG-SrRuO3-50D06-US5
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Cu(9)In(11)-Target, Reinheit: 99,99 %, 4 Zoll Durchmesser x 0,125 Zoll
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Zweizonen-CSS-Ofen mit rotierendem Waferhalter bis zu 5 x 5 Zoll bei max. 800 °C
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Labor-Präzisions-Temperaturgeregelte Vakuum-Wärmeverdampfungs-Beschichtungsmaschine
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Labor-DC-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine mit Target für die Edelmetallbeschichtung
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