Labor-Zweizonen-CSS-Ofen für schnelle thermische Verarbeitung bis zu 3 Zoll Durchmesser und 650 °C.

OTF-1200X-RTP-II ist ein Schnellwärmebehandlungsofen mit zwei Heizzonen und einem Quarzrohr mit einem Außendurchmesser von 11 Zoll. Er ist für PVD oder CSS ausgelegt ( Sublimation mit engen Abständen ) Filmbeschichtung bis zu 3" Durchmesser oder 2"x2" quadratisch. Der Ofen wird durch zwei Gruppen von Halogenheizungen (oben und unten) separat mit einer Heizrate von max. 20ºC/s beheizt. Zwei 30-Segment-Präzisions-Temperaturregler sind eingebaut +/-1ºC Genauigkeit. RS485-Anschluss und Steuerungssoftware sind enthalten, um den Betrieb von Ofen- und Temperaturprofilprotokollierung über PC zu ermöglichen. Es ist ein hervorragendes Werkzeug, um Dünnschichten der neuen Generation für Solarzellen wie CdTe, Sulfid und P zu erforschen Erowskit-Solarzelle.

SPEZIFIKATIONEN:

Ofenstruktur & Vakuumkammer	· Dual Heater, zwei Temperaturregler, Zweikanal-Gasdurchflussmesser sind in einen mobilen Rahmen aus Aluminiumlegierung integriert · Die Kammer besteht aus hochreinem Quarzglasrohr · Quarzrohrgröße: 11" AD/10,8" ID x 9" H · Die Vakuumflansche bestehen aus Edelstahl 316 · Gesamtabmessungen: 850 (L) × 745 (B) × 1615 (H) mm
Vakuumflansche	· Der obere Flansch mit einem KFD-25-Vakuumanschluss und zwei Gasauslässen (1/4-Zoll-Rohr erforderlich) kann manuell nach oben oder unten geschoben werden, um das Substrat und das verdampfte Material einfach zu laden und zu entladen · Der untere Flansch hat einen KFD-25-Vakuumanschluss mit zwei Gaseinlässen (1/4"-Rohr erforderlich) und Nadelventilen · Der Flansch ist durch doppelte Silikon-O-Ringe abgedichtet und kann einen maximalen Vakuumdruck von 10E-2 Torr durch eine hochwertige mechanische Pumpe und 10E-5 Torr durch eine Molekularpumpe erreichen (Vakuumpumpe ist nicht enthalten, bitte separat bestellen) · Präzisions-Antikorrosions-Digital-Vakuummeter ist im Standardpaket enthalten (seit 2016.03.24) .
Gasdurchflussmesser	Auf dem Bedienfeld sind zwei Schwimmerzähler mit einem Messbereich von: · 16 -160 ml/min · 400 - 4000 ml/m (für Spülzwecke)
Heizung und Probenhalter	· Zwei kurzwellige IR-Lampen als Heizelemente für schnelles Aufheizen. · Der Abstand zwischen zwei Strahlern ist einstellbar von 10 - 50 mm · Die Heizungen bestehen aus Edelstahl mit Wasserkühlmantel, um die Wärmestrahlung zu reduzieren und eine schnelle Abkühlung zu ermöglichen · 3" runder Waferhalter ist mit einer Oberheizung zum Laden des Substrats eingebaut · Eine hochwärmeleitfähige AlN-Platte (3 Zoll Durchmesser x 0,5 mm Dicke) ist im Lieferumfang enthalten, die auf die Rückseite des Substrats gelegt wird, um es gleichmäßig zu erhitzen · Eine 3"-Graphitplatte kann alternativ zur AIN-Platte verwendet werden, bitte klicken Sie zum Bestellen auf das Bild unten. · Der Ersatz der Halogenlichtheizung ist gegen Aufpreis erhältlich
Temperaturregler	· Zwei präzise digitale Temperaturregler mit 30 programmierbaren Segmenten bieten eine unabhängige Steuerung der Ober- und Unterhitze · Jeder Controller verfügt über eine PID-Autotuning-Funktion zum Schutz der Heizungen vor Überschwingen und eine Alarmfunktion, um eine Überhitzung und einen Bruch des Thermoelements zu vermeiden · PC-Kommunikationsschnittstelle & Software ist für die Aufzeichnung des unten gezeigten Temperaturprofils installiert (klicken Sie auf das Bild unten für Details).
Arbeitstemperatur	· Höchsttemperatur für jede Heizung: <= 650ºC · Maximaler Temperaturunterschied zwischen zwei Heizungen: <= 300ºC abhängig vom Abstand zwischen zwei Heizungen: Ö Abstand 30 mm max. Temperaturunterschied: 315ºC bei nur Bodenheizung Ö Abstand 40 mm max. Temperaturunterschied: 350ºC bei nur Bodenheizung Ö Abstand 50 mm max. Temperaturunterschied: 395ºC bei nur Bodenheizung
Heizung & Kühlrate	· Heizung: < 8ºC/s (nur Heizen mit Einzelheizung) · Kühlung: < 10 °C/s (600 - 100 °C) max.
Thermisches Paar	Zwei Thermoelemente vom Typ K (freigelegt) sind separat an der oberen und unteren Heizung installiert
Betriebsspannung	208 - 240 VAC, einphasig, 20 A Luftunterbrecher
Leistungsbedarf	2200 W insgesamt (1100 W für jede Heizung)
Optional	· Es wird eine Vakuumpumpe benötigt. Bitte bestellen Sie separat, indem Sie auf das erste Bild von links unten klicken. Das Vakuumniveau kann < = 10E-2 Torr durch mechanische Pumpe · Wenn Sie korrosives Gas verwenden, ziehen Sie bitte in Betracht, gegen Aufpreis eine korrosionsbeständige Trockenpumpe zu verwenden, die im zweiten Bild von links unten gezeigt wird (Pfeiffer-Pumpe aus Deutschland). · Sie können einen Umlaufwasserkühler zum Einsparen von Wasserquellen separat bestellen · Sie können das digitale MFC-Gasversorgungssystem auswählen, indem Sie auf das erste Bild rechts unten klicken
Garantie	Ein Jahr begrenzt mit lebenslanger Unterstützung (Verbrauchsteile wie Quarzröhre und Heizlampen sind nicht von der Garantie abgedeckt)
Laptop, Software & WLAN-Steuerung (optional)	· Brandneuer Laptop mit Microsoft Windows 10 und Microsoft Office 2013 (30 Tage kostenlos testen) zur sofortigen Nutzung. · Labview-basiertes Temperaturkontrollsystem ( EQ-MTS01 ) ermöglicht es dem Benutzer, Temperaturprofile zu bearbeiten, Wärmebehandlungsrezepte zu verwalten, Daten für MTI-Öfen aufzuzeichnen und darzustellen. · Eine drahtlose Fernbedienung bietet eine Reichweite von bis zu 300 Metern. · Die oben genannten Funktionen sind auf Anfrage gegen Aufpreis (bis zu 1.000 USD) verfügbar. Bitte kontaktieren Sie uns für weitere Informationen. · Notiz: Die Software ist nur mit dem Yudian Temperature Controller von MTI kompatibel ·
Anwendungshinweise	Bitte Artikel lesen: Hocheffiziente CSS-CdTe-Solarzelle
Warnung	· Die Rohröfen mit Quarzrohr sind für den Einsatz unter Vakuum und Niederdruck < 0,2 bar / 3 psi / 0,02 MPa. Vakuumdrücke dürfen nur bis 1000°C sicher verwendet werden. Die Durchflussrate für Gase sollte auf < 200 SCCM (oder 200 ml/min) zur Reduzierung von Temperaturschocks auf das Röhrchen. · Aufmerksamkeit : An der Gasflasche muss ein zweistufiger Druckregler installiert sein, um den Druck für einen sicheren Betrieb auf unter 3 PSI zu begrenzen.