DC- oder HF-Hochvakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtung

DC- oder HF-Hochvakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtungsbeschichtung Einführung Hoch Vakuum-Magnetron-Ionen-Sputtering-Coater ist ideal und konzipiert für die Materialwissenschaft und Probenvorbereitung. Es wird von den meisten Universitäten und wissenschaftlichen Forschungsinstituten der Materialwissenschaft und -technik zum Beschichten von Metallen, Keramiken, Halbleitern, Isolatoren oder anderen Arten der Membranmaterialvorbereitung verwendet. Hochvakuum-Magnetron-Ionen-Sputtering Coater bietet die stabilste Sputterumgebung und erreicht die grundlegenden experimentellen Bedingungen des Magnetron-Sputterns in sehr kurzer Zeit. Es bietet zwei Arten von DC / RF-Sputterleistungsoptionen, die das Sputtern von leitfähigen oder nicht leitfähigen Substanzen auf Proben ermöglichen und die Leistung der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) verbessern. Es eignet sich auch hervorragend zur Oberflächenbehandlung und Beschichtung. Es ist einfach zu bedienen und auch benutzerfreundlich. Vakuumpumpe und Kühler sind im Lieferumfang enthalten. Parameter Vakuum p ump s et ( Ö nicht erforderlich) r otary v Akuum p ump+( Ö ich bin frei) t Urbo m oleculan p Ump-Set Rotierend p Umping s gepinkelt 50 Hz: 16 m³ / h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2 m³ /h (5,2 l/s) Molekular p Umping s gepinkelt 300 l/ s Vakuum l imitieren 5 * 10 -5 Pa Arbeiten p Druck 0,5-5 Pa Staubsaugen t ich mich > 10 Minuten (10 -3 Pa) Vakuum m Leichtigkeit Messbereich von Atmosphäre bis 1*10 -6 Pa Gas c steuern Gas f niedrig c Controller Kammer s Größe φ260*200mm (Höhe) m u.a Magnetron t arget s Quelle Zielgröße φ 50 * 3 mm (Cu) / t Zielquelle: w eak m magnetisch s Substanz / m Materialien Betrieb m Methode Anleitung Handbuch l Gewicht/ s Größe 100 kg/610 mm Länge x 420 mm Breite x 490 mm hoch Leistung s liefern Wechselstrom 110 V 60 Hz oder Wechselstrom 220 V 50 Hz Leistung c Verbrauch < 3000 W Kühlung m Methode Luft c ölen ( p ump)+ w ater c ölen ( s putzen t arget) Garantie Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslanger Produktunterstützung

Materials Science Vakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtung Coater

Materials Science Vakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtung Coater Einführung Materialwissenschaften Magnetron-Ionen-Sputtering-Coater (Modell SD900M) ist ideal und für die Vorbereitung von REM-Proben im Labor konzipiert. Es wird häufig verwendet, um nichtleitende oder wärmeempfindliche REM-Proben zur besseren Bildgebung mit Au zu beschichten. Es eignet sich auch hervorragend zur Oberflächenbehandlung und vermeidet Beschädigungen der Substratprobe. Beschichtungsergebnis Beispielbild unter SEM (nach SD-900M-Modell) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) Niedriges Vakuum, kann schnell erreicht werden, wenn eine geeignete Vakuumpumpe innerhalb von 5 Minuten verwendet wird. Es erzeugt viel weniger Wärme und vermeidet Plasmaschäden an der Substratprobe. Es ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen. Vakuumpumpe ist dabei. Kühler ist optional. Parameter Vakuum p ump s et ( Ö nicht erforderlich) r otary v Akuum p ump Rotierend p Umping s gepinkelt 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz: 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vakuum l imitieren 2 Pa Maximaler Sputterstrom 100mA Arbeiten p Druck 20 Pa - 8 Pa Staubsaugen t ich mich &lt;5 Mindest( 2 Pa) Vakuum m Leichtigkeit Messbereich von Atmosphäre bis 2*10 -2 Millibar Kammer s Größe Φ fünfzehn 0* 12 0 mm (Höhe) kratzfestes Quarzglas Magnetron t arget s Quelle Ziel Größe φ50 * 0,1 mm (Au) / t Zielquelle: Au,Ag,Pt Betrieb m Methode Anleitung Handbuch l Gewicht/ s Größe 45 kg/ 36 0mm Länge x 30 0 mm breit x 38 0 mm hoch Leistung s liefern Wechselstrom 110 V 60 Hz oder Wechselstrom 220 V 50 Hz Leistung c Verbrauch &lt; fünfzehn 00 W Kühlungsmethode Wasserkühlung (optional) Garantie Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslanger Produktunterstützung

Magnetron-Ionen-Kohle-Sputter-Beschichter mit thermischer Verdampfung für die REM-Probenvorbereitung

Magnetron-Ionen-Kohle-Sputter-Beschichter mit thermischer Verdampfung für die REM-Probenvorbereitung Einführung Magnetron-Ionen-Sputter-Einheit &Ampere; Thermal Verdampfungskohle Beschichter ist ideal und konzipiert für die Vorbereitung von REM-Proben im Labor. Das Modell SD900C (Magnetron Ion Sputtering Unit) wird häufig verwendet, um nichtleitende oder wärmeempfindliche REM-Proben für eine bessere Bildgebung mit Au zu beschichten. Es eignet sich auch hervorragend zur Oberflächenbehandlung und vermeidet Beschädigungen der Substratprobe. Kohlenstoffbeschichter Modell SD900C (Thermal Evaporation Carbon Unit) trägt einen dünnen leitfähigen Kohlenstofffilm auf eine Probenoberfläche auf. Das Aufbringen dieser Beschichtung auf eine nichtleitende Probe ist eine effektive Vorbereitungstechnik zum Verringern von Aufladungselektronenartefakten für die Analyse in einem SEM. Der Arbeitsvakuumdruck kann schnell erreicht werden, wenn eine geeignete Vakuumpumpe innerhalb von 5 Minuten verwendet wird. Es ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen. Vakuumpumpe ist dabei. Kühler ist optional. (für Magnetron-Ionen-Sputter-Einheit) Parameter Vakuum p ump s et ( Ö nicht erforderlich) r otary v Akuum p ump Rotierend p Umping s gepinkelt 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz: 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vakuum l imitieren 2 Pa Maximaler Sputterstrom 100mA Maximale Verdunstung Strom 100A Arbeiten p Druck 20 Pa - 8 Pa Staubsaugen ti mich &lt;5 Mindest( 2 Pa) Vakuum m Leichtigkeit Messbereich von Atmosphäre bis 2*10 -2 Millibar Gas c steuern Gas f niedrig c Controller Kammer s Größe Φ fünfzehn 0* 12 0 mm (Höhe) kratzfestes Quarzglas Magnetron t arget s Quelle Zielgröße φ 50* 0,1 mm( EIN u)/ t Zielquelle: Au,Ag,Pt Verdunstung t arget s Quelle Zielmaterial: Kohlenstoffseil / Zielquelle: Kohlenstoffseil Betrieb m Methode Anleitung Handbuch l (2 Einheiten) Gewicht/ s Größe 55 kg/ 36 0mm Länge x 30 0 mm breit x 38 0 mm hoch Leistung s liefern Wechselstrom 110 V 60 Hz oder Wechselstrom 220 V 50 Hz Leistung c Verbrauch &lt; 20 00 W Kühlung m Methode Luft c ölen (Verdampfung)+Wasserkühlung (Sputtern) Garantie Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslangem Produkt Unterstützung t