Vakuum-Kohlenstoffbeschichtungsanlage mit thermischer Verdampfung für die Materialwissenschaft

Vakuum-Kohlenstoffbeschichtungsanlage mit thermischer Verdampfung für die Materialwissenschaft Einführung Kohlenstoffbeschichter mit thermischer Verdampfung (Modell SD800C) ist ideal und für die Vorbereitung von REM-Proben im Labor konzipiert. Kohlenstoffbeschichter Modell SD800C trägt einen dünnen leitfähigen Kohlenstofffilm auf eine Probenoberfläche auf. Das Aufbringen dieser Beschichtung auf eine nichtleitende Probe ist eine effektive Vorbereitungstechnik zum Verringern von Aufladungselektronenartefakten für die Analyse in einem SEM. Der Arbeitsvakuumdruck kann schnell erreicht werden, wenn eine geeignete Vakuumpumpe innerhalb von 5 Minuten verwendet wird. Es ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen. Vakuumpumpe ist dabei. Parameter Vakuum p ump s et ( Ö nicht erforderlich) r otary v Akuum p ump Rotierend p Umping s gepinkelt 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz: 9. 6 m³ /h 2 . 6 L/s) Vakuum l imitieren 2 Pa Maximale Verdunstung Strom 100A Arbeiten p Druck 6Pa - 4 Pa Staubsaugen t mich < 5 Mindest( 2 Pa) Vakuum m Leichtigkeit Messbereich von Atmosphäre bis 2*10 -2 Millibar Kammer s Größe Φ fünfzehn 0* 12 0 mm (Höhe) kratzfestes Quarzglas Verdunstung t arget s Quelle Ziel Material: Kohlenstoffseil/Zielquelle: Kohlenstoffseil Betrieb m Methode Anleitung Handbuch Gewicht/ s Größe 45 kg/ 34 0mm Länge x 39 0 mm breit x 30 0 mm hoch Leistung s liefern Wechselstrom 110 V 60 Hz oder Wechselstrom 220 V 50 Hz Leistung c Verbrauch < 2 000W Garantie Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslangem Produkt Unterstützung

Materials Science Vakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtung Coater

Materials Science Vakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichtung Coater Einführung Materialwissenschaften Magnetron-Ionen-Sputtering-Coater (Modell SD900M) ist ideal und für die Vorbereitung von REM-Proben im Labor konzipiert. Es wird häufig verwendet, um nichtleitende oder wärmeempfindliche REM-Proben zur besseren Bildgebung mit Au zu beschichten. Es eignet sich auch hervorragend zur Oberflächenbehandlung und vermeidet Beschädigungen der Substratprobe. Beschichtungsergebnis Beispielbild unter SEM (nach SD-900M-Modell) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) Niedriges Vakuum, kann schnell erreicht werden, wenn eine geeignete Vakuumpumpe innerhalb von 5 Minuten verwendet wird. Es erzeugt viel weniger Wärme und vermeidet Plasmaschäden an der Substratprobe. Es ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen. Vakuumpumpe ist dabei. Kühler ist optional. Parameter Vakuum p ump s et ( Ö nicht erforderlich) r otary v Akuum p ump Rotierend p Umping s gepinkelt 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz: 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vakuum l imitieren 2 Pa Maximaler Sputterstrom 100mA Arbeiten p Druck 20 Pa - 8 Pa Staubsaugen t ich mich <5 Mindest( 2 Pa) Vakuum m Leichtigkeit Messbereich von Atmosphäre bis 2*10 -2 Millibar Kammer s Größe Φ fünfzehn 0* 12 0 mm (Höhe) kratzfestes Quarzglas Magnetron t arget s Quelle Ziel Größe φ50 * 0,1 mm (Au) / t Zielquelle: Au,Ag,Pt Betrieb m Methode Anleitung Handbuch l Gewicht/ s Größe 45 kg/ 36 0mm Länge x 30 0 mm breit x 38 0 mm hoch Leistung s liefern Wechselstrom 110 V 60 Hz oder Wechselstrom 220 V 50 Hz Leistung c Verbrauch < fünfzehn 00 W Kühlungsmethode Wasserkühlung (optional) Garantie Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslanger Produktunterstützung