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Zwei-in-Eins-Filmbeschichter: Plasma-Sputter- und Kohlenstoffverdampfungs-Beschichtungsmaschine
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Ultraschall-Hochvakuum-Beschichter mit thermischer Verdampfung und vier Heizquellen (10-6 Torr)
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Labor-CSS-Ofen mit zwei Zonen für die schnelle thermische Bearbeitung von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 5 Zoll bei max. 800 °C
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Magnetron-Ionen-Kohle-Sputter-Beschichter mit thermischer Verdampfung für die REM-Probenvorbereitung
Magnetron-Ionen-Kohle-Sputter-Beschichter mit thermischer Verdampfung für die REM-Probenvorbereitung Einführung Magnetron-Ionen-Sputter-Einheit &Ampere; Thermal Verdampfungskohle Beschichter ist ideal und konzipiert für die Vorbereitung von REM-Proben im Labor. Das Modell SD900C (Magnetron Ion Sputtering Unit) wird häufig verwendet, um nichtleitende oder wärmeempfindliche REM-Proben für eine bessere Bildgebung mit Au zu beschichten. Es eignet sich auch hervorragend zur Oberflächenbehandlung und vermeidet Beschädigungen der Substratprobe. Kohlenstoffbeschichter Modell SD900C (Thermal Evaporation Carbon Unit) trägt einen dünnen leitfähigen Kohlenstofffilm auf eine Probenoberfläche auf. Das Aufbringen dieser Beschichtung auf eine nichtleitende Probe ist eine effektive Vorbereitungstechnik zum Verringern von Aufladungselektronenartefakten für die Analyse in einem SEM. Der Arbeitsvakuumdruck kann schnell erreicht werden, wenn eine geeignete Vakuumpumpe innerhalb von 5 Minuten verwendet wird. Es ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen. Vakuumpumpe ist dabei. Kühler ist optional. (für Magnetron-Ionen-Sputter-Einheit) Parameter Vakuum p ump s et ( Ö nicht erforderlich) r otary v Akuum p ump Rotierend p Umping s gepinkelt 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz: 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) Vakuum l imitieren 2 Pa Maximaler Sputterstrom 100mA Maximale Verdunstung Strom 100A Arbeiten p Druck 20 Pa - 8 Pa Staubsaugen ti mich <5 Mindest( 2 Pa) Vakuum m Leichtigkeit Messbereich von Atmosphäre bis 2*10 -2 Millibar Gas c steuern Gas f niedrig c Controller Kammer s Größe Φ fünfzehn 0* 12 0 mm (Höhe) kratzfestes Quarzglas Magnetron t arget s Quelle Zielgröße φ 50* 0,1 mm( EIN u)/ t Zielquelle: Au,Ag,Pt Verdunstung t arget s Quelle Zielmaterial: Kohlenstoffseil / Zielquelle: Kohlenstoffseil Betrieb m Methode Anleitung Handbuch l (2 Einheiten) Gewicht/ s Größe 55 kg/ 36 0mm Länge x 30 0 mm breit x 38 0 mm hoch Leistung s liefern Wechselstrom 110 V 60 Hz oder Wechselstrom 220 V 50 Hz Leistung c Verbrauch < 20 00 W Kühlung m Methode Luft c ölen (Verdampfung)+Wasserkühlung (Sputtern) Garantie Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslangem Produkt Unterstützung t