Eingangsleistung

• 220 VAC, 50/60 Hz, einphasig
• 800 W (inkl. Pumpe)
• Wenn die Spannung 110 VAC beträgt, ist ein 1000-W-Transformator erforderlich. Zum Bestellen klicken Sie bitte auf das linke Bild

Quellkraft

• Einer 13,5 MHz, 300 W HF-Generator mit automatischer Anpassung Funktion ist in einen Schrank eingebaut und an einen 2"-Sputterkopf angeschlossen.
• Optional: Zum Beschichten von metallischem Material ist eine DC-Sputterstromquelle erhältlich

Magnetron-Sputterkopf

• Ein 2-Zoll-Magnetron-Sputterkopf mit Wasserkühlmantel ist im Lieferumfang enthalten und wird über eine Schnellklemme in die Quarzkammer eingesetzt
• Ein Schieber ist am Flansch angebaut (handbetätigt)
• Zur Kühlung der Magnetron-Sputterköpfe ist ein digital gesteuerter Umlaufwasserkühler mit 16 l/min erforderlich
• 1" Sputterkopf ist austauschbar und optional gegen Aufpreis erhältlich
• 148 cm HF-Kabel ist gegen Aufpreis austauschbar
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Sputter-Target

• Erforderliche Zielgröße: 2" Durchmesser x 1/4" Dicke max
• Ein SiO2-Target ist für Demotests enthalten.
• Al2O3-Keramiktarget Beschichtungsverfahren empfehlen
• Optionale 2"-Sputtertargets (mit Trägerplatte) sind auf Anfrage gegen Aufpreis erhältlich.

Vakuumkammer

• Vakuumkammer: 160 mm AD x 150 mm ID x 250 mm Höhe. aus hochreinem Quarz
• Dichtflansch: 165 mm Ø aus Aluminium mit Hochtemperatur-Silikon-O-Ring
• Eine Netzabdeckung aus Edelstahl ist im Lieferumfang enthalten, um HF-Strahlung von der Kammer zu 100 % abzuschirmen
• Vakuumniveau: 1,0E-2 Torr mit integrierter zweistufiger mechanischer Pumpe und 1,0E-5 Torr mit optionaler Turbopumpe

Beispiel halter

• Der Probenhalter ist drehbar und beheizbar und besteht aus einer Keramikheizung mit Edelstahlabdeckung
• Die Probenhaltergröße: 50 mm Durchmesser. für 2"-Wafer max
• Drehzahl einstellbar: 1 - 10 U/min für gleichmäßige Beschichtung
• Die Haltertemperatur ist von RT bis max. 500 °C mit einer Genauigkeit von +/- 1,0 °C über einen digitalen Temperaturregler einstellbar.
• Probenhalter für 800-1000ºC Erwärmung ist auf Anfrage erhältlich.
• Für die Power-PVD-Beschichtung ist ein optionaler Vibrationsprobenhalter erhältlich. (Bild 3 unten)
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Vakuumpumpstation

• KF25 Der Vakuumanschluss ist zum Anschluss an eine Vakuumpumpe eingebaut.
• Eine Vakuumpumpe mit KF25-Adapter wird benötigt, ist aber nicht im Lieferumfang enthalten. Zur separaten Bestellung bitte Bild anklicken.
• Vakuumniveau: 1,0E-2 Torr mit zweistufiger mechanischer Pumpe und 1,0E-5 Torr mit der Turbopumpe

Optional

• Optional ist ein präziser Quarzdickensensor erhältlich, der in die Kammer eingebaut werden kann, um die Beschichtungsdicke mit einer Genauigkeit von 0,10 Å zu überwachen. Der Laptop wird für die Anzeige der Dickenkorve benötigt
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Gesamtabmessungen

Reingewicht

• 70 kg

Garantie & Beachtung

• Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslanger Unterstützung
• CE-zertifiziert
• NRTL- oder CSA-Zertifizierung ist auf Anfrage gegen Aufpreis erhältlich

Anwendungshinweise

• Dieser kompakte 2-Zoll-RF-Magnetron-Sputter-Coater ist für die Beschichtung von Oxid-Dünnfilmen auf Oxid-Einkristall-Substraten ausgelegt, was normalerweise keine Hochvakuum-Einrichtung erfordert
• Bitte verwenden Sie > 5N reines Ar-Gas zum Plasmasputtern
• Für die beste Haftfestigkeit zwischen Film und Substrat reinigen Sie bitte die Substratoberfläche vor dem Beschichten:
• Ultraschallreinigung mit den folgenden aufeinanderfolgenden Bädern – (1) Aceton, (2) Isopropylalkohol – zum Entfernen von Öl und Fett. Föhnen Sie das Substrat mit N2 trocken und backen Sie es dann im Vakuum heiß, um absorbierte Feuchtigkeit zu entfernen
• Eine Plasmareinigung kann zum Aufrauen der Oberfläche, zur Aktivierung chemischer Oberflächenbindungen oder zum Entfernen zusätzlicher Verunreinigungen erforderlich sein
• Eine dünne Pufferschicht (~5 nm) wie Cr, Ti, Mo, Ta könnte aufgebracht werden, um die Haftung von Metallen und Legierungen zu verbessern
• Für die beste Leistung müssen die nichtleitenden Targets mit einer Kupferträgerplatte installiert werden. Bitte beachten Sie das Anleitungsvideo unten (Nr. 3) für die Zielbindung
• TMAX verwendet die Beschichter haben erfolgreich ZnO auf Al beschichtet 2 Ö 3 Substrat bei 500 °C (XRD-Profil in Bild 5)
• Verwenden Sie KEIN Leitungswasser im Wasserkühler. Als Kühlmittel DI-Wasser, destilliertes Wasser oder Korrosionsschutzzusätze verwenden.
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