HF-Stromversorgung

das pecvd system besteht aus Rohrofen, Quarzvakuumkammer, Vakuumsystem, Gasversorgung system und rf stromversorgung. hauptsächlich verwendet in: metall film, keramik film, zusammengesetzter Film, Graphen und anderes Wachstum. Es ist einfach, die Funktion zu erhöhen von Plasma Reinigung Ätzen und Ätzen. Das PECVD-System hat Vorteile von hoch Abscheiderate, gute Gleichmäßigkeit, Konsistenz und Stabilität.

Leistungsbereich	0-500W
maximale reflektierte Leistung	200w
Arbeitsfrequenz	rf ： 13,56 MHz ± 0,005%
pw stabilität	+/- 0,1%
harmonische Komponente	≤ -50dbc
HF-Breite	0-600mm einstellbar
Matching-Modus	Auto
Kühlmodus	Luft kalt
Lärm	& lt; 50 dB
HF-Schnittstelle	50 Ω n-Typ
Eingangsleistung	208-240 V 50/60 Hz

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3 verantwortlich für den schaden während des versandprozesses, wird den schaden teil für sie kostenlos ändern.