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- : No. 39, Xinchang Road, Xinyang, Haicang Dist., Xiamen, Fujian, China (Mainland)
sputtering-target
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Pt-Ziel, 99,99 % 2" x 3,0 mm
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Hochreines Target aus 99,99 % Aluminiumoxid (AL2O3), 2 Zoll Durchmesser x 2 mm
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Target aus hochreinem Aluminium (Al), 99,99 %
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Target aus hochreinem Bleiselenid (PbSe), 2,003 Zoll Durchmesser x 0,129 Zoll
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Hochreines SrTiO3-Target 1" Durchmesser x 0,25" Dicke Keramik
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Cu(9)In(11)-Target, Reinheit: 99,99 %, 4 Zoll Durchmesser x 0,125 Zoll
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Sputtertarget aus hochreinem Kupfer (Cu).
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Target aus hochreinem Edelstahl, 2 Zoll Durchmesser x 0,3 mm
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Cd-Target, Reinheit: 99,999 % 2 Zoll Durchmesser x 1/8 Zoll mit Kupfer-Trägerplatte
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Cu(1 % Ga)-Target, Reinheit: 99,99 % 4" Durchmesser x 0,25"
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Galliumdotiertes Zinkoxid (GZO) Keramiktarget (3,4 % Dotierung), 99,99 %, 6,9" x 4,3" x 0,2"
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Zr-Target, 99,99 %, 8,9 Zoll x 6,9 Zoll x 0,25 Zoll, TG-Zr-222-172-0635CN
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Ba0,5Sr0,5TiO3-Target, 99,99 %
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Al2O3 Target, Reinheit: 99,99 %, 6,9" x 8,9" x 0,25" dick, Target-Al2O3-172-222-0635CN
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Al2O3-Einkristall zum Aufdampfen, Reinheit 99,99 %, 5x5x5 mm im Schnitt
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